Duvida gases corrrosivos durante uso de produtos e deposit3

Química

Aprendi q o cloro ativo 2,5% da agua sanitaria se refere ao íon hipoclorito (ClO-), que pode se decompor e produzir cloro gasoso. Por mais que o cloro gasoso não sej apor si só muito corrosivo, ele pode formar ácidos em contato com a água, estes sim são corrosivos, mas a agua sanitaria é uma mistura de agua e cloro ativo entao nessa mistura gerou algum acido? se qualquer vapor dessa agua sanitaria se misturar com alguma umidade vira acido q começa corrosao de metais nas proximidades atraves dos vapores?

 

cloro ativo na concentração 2,5% é muito volatil a gerar vapores q se depositam em placas eletronicas nas proximidades? acido muriatico comercial vendido como produto de limpeza em supermercados e comercios tem 10% de HCL? qual a pressao de vapor e ponto de ebulição do acido muriatico 10%? oara gerar vapores q nas proximidades se depositem em aparelhos eltronicos iniciando corrosao?

 

acido tricloroacetico tca ata 70% é considerado acido a temperatura ambiente, só isso é suficiente para cravar q ele nao gera vapores q se espalham e condensam em placas eletronicas iniciando corrosao?

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Carlos perguntou há 4 anos

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Professor Samuel F.
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Respondeu há 4 anos

Boa tarde Carlos!

Acedito que fui que te respondi essas coisas, vou tentar ser mais específico.

A água sanitária é uma solução de hipoclorito de sódio, o nome "cloro ativo" é tecnicamente errado. O hipoclorito como um íon, faz a solução ter caráter básico.

ClO- + H2O ? HClO + OH-

O mecanismo de produção do cloro gasoso é radicalar, com formação de radicais livres, ele ocorre na presença de luz e calor, por isso que a embalagem de água sanitária é opaca. Seria algo assim:

HClO ? HO. + Cl.

2Cl. ? Cl2

Perceba que além dessas reações, ocorrem diversas outras, tanto iônicas, quando radicalares, só coloquei essas para evidenciar a formação de cloro gasoso. Quando eu mencionei que em umidade o cloro poderia formar ácidos, é devido a seguinte reação:

Cl2 + H2O ? H+ + Cl- + HClO

O HClO é um ácido fraco, por isso que não coloquei na forma ionizada. O H+ formado pode atacar facilmente superfície de metais.

Sobre o ácido muriático, a sua concentração como agente de decapagem (remoção de ferrugem) é em torno de 18%. A pressão de vapor nessa concentração a temperatura de 20°C é de 1,4 kPa e o ponto de ebulição é de 108°C. (Fonte: https://en.wikipedia.org/wiki/Hydrochloric_acid) Para fins de comparação, a pressão ambiente é em torno de 100 kPa.

Sobre o TCA, ele puro é um sólido a temperatura ambiente, a solução 70% é liquida. Isso por si só não é suficiente para afirmar que ele não gera vapores. Mas, ele puro tem pressão de vapor de 1 mmHg a 51°C (A pressão ambiente é 760 mmHg), por mais que a sua solução aquosa tenha maior pressão de vapor que esse valor, ainda vai ser menor que a pressão de vapor da água pura, já que devido às propriedades coligativas ele interage fortemente com a água. Portanto ele é bem menos volátil que o ácido muriático.

Perceba que em um quarto abafado, a própria umidade já é um problema por si só para os metais e eletrônicos, de todos os produtos que citou, o TCA é o menos pior, pelos motivos que eu falei.

Espero ter ajudado, qualquer coisa manda uma mensagem. Abraços!

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